倒置熒光顯微鏡是一種電費常規顯微鏡的一種特殊分類(lèi)，結合了倒置光路設計與熒光成像技術(shù)，其物鏡、聚光鏡和光源的位置都顛倒過(guò)來(lái)，由熒光附件與顯微鏡有機結合構成的顯微鏡。激發(fā)光從物鏡向上落射到標本表面，被反射到物鏡中并聚集在樣品上，樣品所產(chǎn)生的熒光以及由物鏡透鏡表面、蓋玻片表面反射的激發(fā)光同時(shí)進(jìn)入物鏡，經(jīng)雙色束分離器使激發(fā)光和熒光分開(kāi)而成像。物鏡和聚光鏡的工作距離很長(cháng)，能直接對培養皿中的被檢物體進(jìn)行顯微觀(guān)察和研究。

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倒置熒光顯微鏡廣泛應用于活細胞動(dòng)態(tài)觀(guān)測、免疫熒光分析及三維組織成像等領(lǐng)域。其光學(xué)元件的設計與配置直接決定了熒光信號的采集效率、信噪比及分辨率，下面我們將簡(jiǎn)單為大家介紹關(guān)于其應用的光學(xué)元件。

倒置熒光顯微鏡的光學(xué)系統由激發(fā)光路、發(fā)射光路、物鏡系統和輔助光學(xué)元件等部分組成，每個(gè)光學(xué)元件在熒光成像過(guò)程中都承擔著(zhù)關(guān)鍵作用。以下對各部分光學(xué)元件的類(lèi)型、參數、功能及加工要求進(jìn)行詳細說(shuō)明：

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一、激發(fā)光路光學(xué)元件

激發(fā)光路的核心元件包括激發(fā)濾光片和二向色鏡。激發(fā)濾光片通常采用帶通濾光片（Bandpass Filter），其中心波長(cháng)需根據熒光染料特性選擇，例如480±5nm用于GFP激發(fā)，帶寬一般為15-25nm（半高寬，FWHM），在中心波長(cháng)處的透光率需大于90%，同時(shí)要求對非目標波長(cháng)的截止深度達到OD6，以有效阻斷雜散光。該濾光片的作用是選擇性透過(guò)特定波長(cháng)范圍的激發(fā)光，其加工過(guò)程中需特別注意膜層要能耐受高功率光源（如汞燈或激光）的熱效應，并且邊緣需進(jìn)行消光處理（如采用黑漆密封）以防止漏光。

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二向色鏡（分光鏡）多采用長(cháng)波通二向色鏡（Longpass Dichroic Mirror），其截止波長(cháng)通常設置為500nm，能夠反射波長(cháng)小于500nm的激發(fā)光（反射率＞95%）同時(shí)透射波長(cháng)大于500nm的發(fā)射熒光信號（透射率＞90%）。該元件的關(guān)鍵作用是實(shí)現激發(fā)光與發(fā)射光的分離，在加工時(shí)需要嚴格控制入射角（通常為45°±2°），基片表面平整度要求達到λ/10（@632.8nm）以避免波前畸變。

二、發(fā)射光路光學(xué)元件

發(fā)射光路主要包括發(fā)射濾光片和場(chǎng)鏡。發(fā)射濾光片可選擇帶通型或長(cháng)波通型，帶通型的典型參數為中心波長(cháng)520±5nm，帶寬40nm（適用于GFP發(fā)射），長(cháng)波通型的截止波長(cháng)一般為515nm，兩者都要求對激發(fā)光殘留的截止深度達到OD6。該元件的主要功能是分離目標熒光信號并抑制干擾，加工時(shí)需確保其光譜與激發(fā)濾光片無(wú)重疊，同時(shí)要考慮斜入射時(shí)的波長(cháng)偏移（中心波長(cháng)偏移需小于2nm@5°）。

場(chǎng)鏡（Tube Lens）采用消色差復合透鏡設計，焦距通常為180-200mm以匹配物鏡的無(wú)限遠校正系統，在400-700nm波段的透過(guò)率需大于95%，全視場(chǎng)波前差小于λ/4。其作用是將物鏡形成的無(wú)限遠像聚焦至相機靶面，加工時(shí)需要重點(diǎn)校正軸向色差（如F線(xiàn)和C線(xiàn)的焦點(diǎn)重合），并保證邊緣視場(chǎng)的MTF在200lp/mm時(shí)大于0.6。

三、物鏡光學(xué)元件

熒光物鏡由多組鏡片構成：前組采用半球形高透氟化鈣（CaF?）單透鏡用于校正紫外色散；中組為低熒光玻璃膠合消色差組（如FK61/SF11組合）；后組則使用高折射率鑭系玻璃（如LaK10）。其數值孔徑（NA）范圍為0.7-1.4（油鏡），工作距離為0.1-2mm（高NA物鏡更短），在設計波段的透過(guò)率需大于80%。該物鏡需要高效收集微弱的熒光信號并成像，加工時(shí)要求透鏡偏心小于0.005mm以避免像散，膠合層需無(wú)氣泡（顯微鏡檢測缺陷小于5μm）。

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四、輔助光學(xué)元件

聚光鏡采用長(cháng)工作距離消色差設計，NA匹配范圍為0.3-0.7（可調光闌），工作距離不小于30mm以適應培養皿厚度。其作用是提供均勻照明并支持相差/微分干涉觀(guān)察，加工時(shí)需校正球差（補償培養皿厚度），表面鍍增透膜（反射率小于0.5%@400-700nm）。

調焦補償鏡組為移動(dòng)式雙膠合透鏡，位移量±5mm用于補償樣品容器厚度差異，要求全行程像差變化導致的波前差小于λ/10。加工時(shí)需保證導軌移動(dòng)直線(xiàn)度小于1μm/10mm，透鏡偏心敏感度小于0.01mm。

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五、光學(xué)加工核心要求

材料選擇方面，紫外波段需使用熔石英或氟化鈣，可見(jiàn)光波段用BK7/FK61等玻璃，需避免含自發(fā)熒光的材料（如某些鑭系玻璃）。鍍膜技術(shù)要求激發(fā)/發(fā)射濾光片采用硬質(zhì)氧化物膜（如Ta?O?/SiO?交替層），物鏡需鍍寬帶增透膜（平均反射率小于0.3%）。裝調公差要求嚴格：物鏡透鏡間隔公差±0.01mm，濾光片傾斜角公差小于0.5°。所有光學(xué)元件需通過(guò)85℃/85%RH老化測試以確保膜層穩定性。

這些光學(xué)元件的精確設計和制造是保證熒光顯微鏡高信噪比、高分辨率成像的關(guān)鍵，需要在整個(gè)加工過(guò)程中嚴格控制材料選擇、光學(xué)設計、鍍膜工藝和裝調精度等各個(gè)環(huán)節。

六、特殊光學(xué)元件

TIRF棱鏡（全內反射熒光）

材質(zhì)：高折射率玻璃（如LaSFN9，n=1.85）。

入射角調節：精密旋轉機構（角度分辨率±0.1°），實(shí)現50-200nm薄層激發(fā)。

共聚焦轉盤(pán)（Yokogawa CSU系列）

微透鏡陣列：直徑500μm，將激光掃描轉換為并行多點(diǎn)激發(fā)。

針孔陣列：孔徑50μm，共聚焦模式下背景信號降低90%。

自適應光學(xué)元件（AO系統）

變形鏡：37-140促動(dòng)器，實(shí)時(shí)校正樣本折射率不均導致的波前畸變。

應用場(chǎng)景：類(lèi)器官深層成像（校正深度＞200μm）。

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鏡片性能優(yōu)化策略

鍍膜技術(shù)：

離子束濺射（IBS）鍍膜：提升紫外波段（＜400nm）透過(guò)率至85%以上。

疏水疏油涂層：減少培養液蒸汽污染（接觸角＞110°）。

光路校準工具：

準直激光器（635nm）：用于激發(fā)/發(fā)射光路共軸校準（偏差＜1μm）。

熒光微球標樣（如InSpeck系列）：定量檢測系統分辨率與信噪比。

七、典型配置方案

倒置熒光顯微鏡的光學(xué)元件需在長(cháng)工作距離、高透光率與精準光譜控制間取得平衡。物鏡的NA與鍍膜質(zhì)量決定熒光采集效率，濾光片組的帶寬與截止陡度影響信噪比，而自適應光學(xué)技術(shù)正推動(dòng)深層活體成像的邊界。未來(lái)，隨著(zhù)超構透鏡（Metalens）與量子點(diǎn)濾光片的成熟，熒光顯微鏡的光學(xué)系統將向更緊湊、多維度探測方向演進(jìn)。